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蝕刻機和光刻機區別

來源:懂視網 責編:小采 時間:2021-11-16 10:20:25
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蝕刻機和光刻機區別

1、工藝不同:刻蝕機是將硅片。上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上。2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。
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導讀1、工藝不同:刻蝕機是將硅片。上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上。2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。

刻蝕機和光刻機的區別如下:

  

  1、工藝不同:刻蝕機是將硅片。上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上。

  

  2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。

  

  等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,由。此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講,等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發生反應,反應的揮發性副產物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝。

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蝕刻機和光刻機區別

1、工藝不同:刻蝕機是將硅片。上多余的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上。2、難度不同:光刻機的難度和精度大于刻蝕機。
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