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2nm光刻機是干什么用的

來源:懂視網(wǎng) 責(zé)編:小采 時間:2021-03-21 01:55:53
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2nm光刻機是干什么用的

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。
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導(dǎo)讀光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。

說到光刻機,很多人肯定都很陌生,也可能是第一次聽見這個東西,那么光刻機是干什么用的呢?一起來了解一下吧。

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。

在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。

光刻機的結(jié)構(gòu)組成:

1、測量臺、曝光臺:是承載硅片的工作臺。

2、激光器:就是光源,光刻機核心設(shè)備之一。

3、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。

4、能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。

5、光束形狀設(shè)置:設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀,不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。

6、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到硅片。

7、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進行調(diào)整。

8、掩模版:一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計圖的玻璃板,貴的要數(shù)十萬美元。

9、掩膜臺:承載掩模版運動的設(shè)備,運動控制精度是nm級的。

10、物鏡:物鏡用來補償光學(xué)誤差,并將線路圖等比例縮小。

11、硅片:用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸,尺寸越大,產(chǎn)率越高。

12、內(nèi)部封閉框架、減振器:將工作臺與外部環(huán)境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

以上就是小編今天的分享了,希望可以幫助到大家。

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光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。
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