說(shuō)到光刻機(jī)，很多人肯定都很陌生，也可能是第一次聽(tīng)見(jiàn)這個(gè)東西，那么光刻機(jī)是干什么用的呢？一起來(lái)了解一下吧。

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。

在加工芯片的過(guò)程中，光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫(huà)著線(xiàn)路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線(xiàn)路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。

光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成：

1、測(cè)量臺(tái)、曝光臺(tái)：是承載硅片的工作臺(tái)。

2、激光器：就是光源，光刻機(jī)核心設(shè)備之一。

3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過(guò)足都會(huì)嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。

5、光束形狀設(shè)置：設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。

6、遮光器：在不需要曝光的時(shí)候，阻止光束照射到硅片。

7、能量探測(cè)器：檢測(cè)光束最終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整。

8、掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線(xiàn)路設(shè)計(jì)圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬(wàn)美元。

9、掩膜臺(tái)：承載掩模版運(yùn)動(dòng)的設(shè)備，運(yùn)動(dòng)控制精度是nm級(jí)的。

10、物鏡：物鏡用來(lái)補(bǔ)償光學(xué)誤差，并將線(xiàn)路圖等比例縮小。

11、硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產(chǎn)率越高。

12、內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺(tái)與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動(dòng)干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

以上就是小編今天的分享了，希望可以幫助到大家。

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