英偉達(dá)計(jì)劃在2024年年底前推出下一代旗艦級顯卡RTX 5090，將使用臺積電的3納米制程技術(shù)。根據(jù)外媒Hardwaretimes的報(bào)導(dǎo)，英偉達(dá)下一代RTX顯卡系列代號為Blackwell，將在臺積電的3納米（N3）節(jié)點(diǎn)制程上生產(chǎn)，內(nèi)含晶體管數(shù)量將超過150億個(gè)，核心頻率將超過3Ghz，顯存帶寬則為512bits，流處理器將會達(dá)到1.8萬個(gè)CUDA。

拓展：RTX 5090采用什么工藝？

眾所周知，制程工藝對于芯片性能的提升至關(guān)重要。隨著工藝的不斷進(jìn)步，芯片的性能和能效得到了顯著提升，而RTX 5090采用的3nm工藝，將是一個(gè)重大的突破和進(jìn)步。3nm工藝相較于之前的工藝，具有更高的晶體管密度和更低的功耗。這意味著在相同的芯片面積下，能夠容納更多的晶體管，從而提供更強(qiáng)大的計(jì)算能力。此外，3nm工藝還能夠降低功耗，提升能效，為用戶提供更長的續(xù)航時(shí)間和更穩(wěn)定的性能。

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